[实用新型]一种硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，其特征在于：包括清洗槽(1)、喷淋管(2)、 清洗篮(5)、清洗槽侧壁一(6)、清洗槽侧壁二(7)、硅片垫板(4)， 其中所述清洗槽侧壁一(6)与清洗槽侧壁二(7)分别设有喷淋管(2)， 所述喷淋管(2)的一端封闭，另一端与供水管相连，所述喷淋管(2)上设 有喷嘴(3)，所述清洗槽(1)的底部设有硅片垫板(4)，所述清洗槽(1) 内设有清洗篮(5)，所述清洗篮(5)上设有齿槽(9)，所述清洗篮(5) 的齿槽(9)中插入硅片(8)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述齿槽 (9)中插入的硅片(8)的数量为10～25片。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述硅片 (8)的放置方向与喷嘴方向平行。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述喷嘴 (3)的间距为5～15cm。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述喷淋 管(2)的内径为12～15mm。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述齿槽 (9)中插入的硅片(8)的数量为13片。