[实用新型]一种新型真空镀膜靶材永磁结构有效

专利信息
申请号: 201521114325.9 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN205313660U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 黄裕祥 申请(专利权)人: 广东耐信镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511400 广东省广州市广州高新技术产业开*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种新型真空镀膜靶材永磁结构,包括阴极组件和安装联接法兰,安装联接法兰上安装有真空贯穿件,真空贯穿件中心安装有靶材组件,靶材组件底端连接旋转式冷却水供应装置,靶材组件上安装有靶材,所述靶材组件下方的安装联接法兰上安装有永磁组件。所述永磁组件安装时,其位置和高度可以调整,以便实现与等离子导向磁场的最佳匹配,从而使电弧更加稳定。本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型在原真空镀膜靶材结构的基础上面,于靶材的下端增加了永磁组件,从而对工作过程中的电弧产生引向作用,控制其在靶材表面的发生范围,从而使靶材均匀损耗,提高了靶材的使用率,同时定向电弧也使靶材结构工作更稳定,安全,可靠。
搜索关键词: 一种 新型 真空镀膜 永磁 结构
【主权项】:
一种新型真空镀膜靶材永磁结构,其特征在于:包括阴极组件和安装联接法兰,安装联接法兰上安装有真空贯穿件,真空贯穿件中心安装有靶材组件,靶材组件底端连接旋转式冷却水供应装置,靶材组件上安装有靶材,其特征在于:所述靶材组件下方的安装联接法兰上安装有永磁组件。
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