[实用新型]一种新型真空镀膜靶材永磁结构有效
申请号: | 201521114325.9 | 申请日: | 2015-12-29 |
公开(公告)号: | CN205313660U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 黄裕祥 | 申请(专利权)人: | 广东耐信镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 511400 广东省广州市广州高新技术产业开*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 真空镀膜 永磁 结构 | ||
1.一种新型真空镀膜靶材永磁结构,其特征在于:包括阴极组件和安装联接法兰,安装联接法兰上安装有真空贯穿件,真空贯穿件中心安装有靶材组件,靶材组件底端连接旋转式冷却水供应装置,靶材组件上安装有靶材,其特征在于:所述靶材组件下方的安装联接法兰上安装有永磁组件。
2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜靶材永磁结构,其特征在于:所述永磁组件包括不锈钢底座和顶部卡箍,不锈钢底座上设有固定孔,不锈钢底座和顶部卡箍之间固定有圈形N极磁体组件,顶部卡箍套住圈形N极磁体组件顶端,所述圈形N极磁体组件内部设有固定在有锈钢底座上的S极磁体。
3.根据权利要求2所述的一种新型真空镀膜靶材永磁结构,其特征在于:所述圈形N极磁体组件由若干块N极磁体呈圈形排列构成。
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