[实用新型]一种新型真空镀膜靶材永磁结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜靶材结构，尤其涉及一种新型真空镀膜靶材永磁结构。

背景技术

现有的真空镀膜靶材结构在工作过程中，带正电荷的靶头运动到低点时，与带负电荷的碳靶作用产生电弧，电弧击打在碳靶表面从而产生碳素离子，从而进行工作，但是因为电弧在碳靶表面的击打位置总是随机性的，造成碳靶表面损耗不均匀，利用率低，同时为了防止电弧窜到外围，对外围的绝缘固定结构要求也更高，为了解决这个问题，研发了本实用新型的产品结构。

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述不足，提供了一种新型真空镀膜靶材永磁结构。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种新型真空镀膜靶材永磁结构，其特征在于：包括阴极组件和安装联接法兰，安装联接法兰上安装有真空贯穿件，真空贯穿件中心安装有靶材组件，靶材组件底端连接旋转式冷却水供应装置，靶材组件上安装有靶材，其特征在于：所述靶材组件下方的安装联接法兰上安装有永磁组件。

所述永磁组件包括不锈钢底座和顶部卡箍，不锈钢底座上设有固定孔，不锈钢底座和顶部卡箍之间固定有圈形N极磁体组件，顶部卡箍套住圈形N极磁体组件顶端，所述圈形N极磁体组件内部设有固定在有锈钢底座上的S极磁体。

所述圈形N极磁体组件由若干块N极磁体呈圈形排列构成。

所述永磁组件安装时，其位置和高度可以调整，以便实现与等离子导向磁场的最佳匹配，从而使电弧更加稳定。

本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型在原真空镀膜靶材结构的基础上面，于靶材的下端增加了永磁组件，从而对工作过程中的电弧产生引向作用，控制其在靶材表面的发生范围，从而使靶材均匀损耗，提高了靶材的使用率，同时定向电弧也使靶材结构工作更稳定，安全，可靠。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的立体结构示意图。

图3是本实用新型的俯视结构示意图。

图4是图3的仰视图。

图5是图4中C-C处的剖面图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步详述。

如图1至图5所示，一种新型真空镀膜靶材永磁结构，包括阴极组件6和安装联接法兰7，安装联接法兰7上安装有真空贯穿件8，真空贯穿件8中心安装有靶材组件9，靶材组件9底端连接旋转式冷却水供应装置10，靶材组件9上安装有靶材11，所述靶材组件9下方的安装联接法兰7上安装有永磁组件12。

所述永磁组件12包括不锈钢底座12-1和顶部卡箍12-2，不锈钢底座12-1上设有固定孔12-3，不锈钢底座12-1和顶部卡箍12-2之间固定有圈形N极磁体组件12-4，顶部卡箍套住圈形N极磁体组件12-4顶端，所述圈形N极磁体组件12-4内部设有固定在有锈钢底座12-1上的S极磁体12-5。

所述圈形N极磁体组件12-4由若干块N极磁体呈圈形排列构成。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。