[实用新型]一种金属有机化学气相沉淀设备有效
申请号: | 201521112918.1 | 申请日: | 2015-12-30 |
公开(公告)号: | CN205241787U | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
发明(设计)人: | 陈银霞 | 申请(专利权)人: | 鹤壁职业技术学院 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 458000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种金属有机化学气相沉淀设备,包括反应箱及喷淋头,反应箱上端设置有喷淋头;反应箱内设置有反应腔,反应腔底端设置有反应平台,反应平台上端设置有反光层;喷淋头包括上盖及孔板,孔板上均布有多个向反应腔内输送气态原材料的小孔,上盖顶部设置有多个与小孔对应的窗口,上盖上设置有多个激光发生与接收装置,激光发生与接收装置上设置有蜂鸣器,蜂鸣器与激光发生与接收装置电连接;反应箱底部设置有电机,电机上端与转轴连接,转轴上端设置有单臂旋转杆,单臂旋转杆上端设置有毛刷。本新型结构设计合理,能实时检测喷淋头中小孔的通堵状况,及时快捷方便地清理喷淋头,节省人力成本,提高工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机化学 沉淀 设备 | ||
【主权项】:
一种金属有机化学气相沉淀设备,包括反应箱及喷淋头,其特征在于,所述反应箱上端设置有喷淋头;所述反应箱内设置有反应腔,所述反应腔底端设置有反应平台,所述反应平台上端设置有反光层;所述喷淋头包括上盖及孔板,所述孔板上均布有多个向反应腔内输送气态原材料的小孔,所述上盖顶部设置有多个与小孔对应的窗口,所述上盖上设置有多个激光发生与接收装置,所述激光发生与接收装置上设置有蜂鸣器,所述蜂鸣器与激光发生与接收装置电连接:所述反应箱底部设置有电机,所述电机上端与转轴连接,所述转轴穿过反应箱延伸至反应腔内,所述转轴上端设置有单臂旋转杆,所述单臂旋转杆上端设置有毛刷。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的