[实用新型]一种极紫外光源性能参数的测量系统有效
| 申请号： | 201520900632.3 | 申请日： | 2015-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN205317449U | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 谢婉露;吴晓斌;陈进新;王魁波;罗艳;张罗莎;王宇;崔惠绒 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 100094*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种极紫外光源性能参数测量系统，其包括：EUV光源腔室、反射镜腔室、测量腔室，其中设置有旋转调节装置；所述旋转调节装置包括：旋转圆盘、至少一个前置部件装载结构、至少一个测量仪器探测部件以及旋转转盘的支撑调节结构；所述旋转圆盘开有至少一个通光孔，所述至少一个测量仪器探测部件安装在所述至少一个通光孔后方；所述旋转转盘的支撑调节结构包括：第一调节杆，将所述旋转圆盘悬空连接到所述测量腔室后壁的接口法兰上；第二调节杆，其穿过所述第一调节杆内部及所述旋转圆盘中心孔，以旋钮方式固定在支撑板上；支撑板，其固定于所述测量腔室底部腔壁上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 光源 性能参数 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种极紫外光源性能参数测量系统，其特征在于，包括：EUV光源腔室，其中设置有光辐照源，用于辐射光；反射镜腔室，其中设置有反射镜，通过与滤光片的共同作用，从所述辐射光滤出EUV光送入测量腔室；测量腔室，其中设置有旋转调节装置；其中，所述EUV光源腔室、反射镜腔室和测量腔室配置有一套抽气泵组以及相应量程的真空计；所述旋转调节装置包括：旋转圆盘、至少一个前置部件装载结构、至少一个测量仪器探测部件以及旋转转盘的支撑调节结构；所述旋转圆盘开有至少一个通光孔，所述至少一个前置部件装载结构固定于所述至少一个通光孔内；所述至少一个测量仪器探测部件安装在所述至少一个通光孔后方；所述旋转转盘的支撑调节结构包括：第一调节杆，其为中空结构，一端固定于所述旋转圆盘，并将所述旋转圆盘悬空连接到所述测量腔室后壁的接口法兰上；第二调节杆，其穿过所述第一调节杆内部及所述旋转圆盘中心孔，以旋钮方式固定在支撑板上；支撑板，其固定于所述测量腔室底部腔壁上；其中所述第一调节杆可旋转地带动所述旋转圆盘在光轴垂直面内旋转；所述第二调节杆可旋转地带动所述旋转圆盘沿光轴方向前后移动。
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