[实用新型]源级大电容MOS器件有效
申请号: | 201520312182.6 | 申请日: | 2015-05-15 |
公开(公告)号: | CN204558470U | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 张干;王建全;彭彪;王作义;崔永明 | 申请(专利权)人: | 四川广义微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 罗言刚 |
地址: | 629000 四川省遂宁市经济技术开发区内(*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 源极大电容MOS器件,包括A型外延层,还包括位于A型外延层上的B型MOS器件,所述B型MOS器件源极外侧紧邻有A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层,所述A型重掺杂区的底部具有向B型MOS器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型。采用本实用新型所述的源极大电容MOS器件,将常用的开关电容电路各个器件统一设计和制造,显著减小了开关电容电路的面积,减少了芯片制造过程的器件连线,简化设计的同时降低了开关电容电路芯片的制造成本。 | ||
搜索关键词: | 源级大 电容 mos 器件 | ||
【主权项】:
源极大电容MOS器件,包括A型外延层,还包括位于A型外延层上的B型MOS器件,其特征在于,所述B型MOS器件源极外侧紧邻有A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层,所述A型重掺杂区的底部具有向B型MOS器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型。
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