[发明专利]单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉及其制备方法有效
| 申请号： | 201510977269.X | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105586034B | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 雷芳;肖维勤;施鹰;谢建军;章蕾 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C09K11/59 | 分类号： | C09K11/59 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉及其制备方法。其化学组成式为Ba1‑xMg2‑ySi2O7Eux,Gay，其中0＜x＜1，0＜y＜1。其特色在于同时掺入铕（Eu）和镓（Ga）两种离子，通过改变Ba、Mg、Eu和Ga的相对组分比例可以实现发光颜色的调控，其中包括近紫外激发下的强烈白光发射。该荧光粉可以采用常规固相法制备，制备过程中需要进行还原反应/处理。这可以简单利用H2或者CO等来实现。该荧光粉除了可以实现单一基质在近紫外激发下明亮的白光发射，显色性好，而且化学稳定性高，制备方法简易、原料成本低，非常适合工业化批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 单一 基质 紫外 激发 可调 荧光粉 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉，其特征在于该荧光粉的化学组成式为：Ba1‑xMg2‑ySi2O7:Eux,Gay，其中0＜x＜1，0＜y＜1。
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