[发明专利]单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉及其制备方法有效
| 申请号： | 201510977269.X | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105586034B | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 雷芳;肖维勤;施鹰;谢建军;章蕾 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C09K11/59 | 分类号： | C09K11/59 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单一 基质 紫外 激发 可调 荧光粉 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉，其特征在于该荧光粉的化学组成式为：Ba1-xMg2-ySi2O7:Eux,Gay，其中0＜x＜1，0＜y＜1。
2.一种制备根据权利要求1所述的单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉的方法，其特征在于该方法的具体步骤为：
a. 称量所需金属的氧化物或碳酸盐，混合均匀研磨0.5~12小时；
b. 将步骤a所得混合料在500~900℃进行预烧，保温0.5~24小时，自然冷却至室温；
c. 在还原气体气氛下，将步骤b所得混合料在900℃~ 1400℃的温度下保温1~36小时后，随炉温自然冷却，即得到单一基质近紫外激发光色可调的荧光粉。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述的还原气体气氛采用高温下能产生还原气体的物质形成。
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