[发明专利]用于提高膜均匀性的装置和方法

摘要

本发明涉及用于提高膜均匀性的装置和方法，本发明已经构思了用于在衬底处理装置中使用的多阶段工艺气体输送系统。在某些实施方式中，第一工艺气体可以首先被输送到在衬底处理室中的衬底上。在稍后的时间，第二工艺气体可被输送到衬底以促进衬底的均匀投配。可以在相同的时间停止或在不同的时间停止第一工艺气体和第二工艺气体的输送。

主权项

1.一种在沉积工艺期间控制对衬底的前体投配的方法，该方法包括：(a)使第一工艺气体流动至所述衬底持续ALD沉积循环的投配阶段的第一时间段，其中，所述第一工艺气体包括第一载气和所述前体；(b)使第二工艺气体流动至所述衬底持续所述ALD沉积循环的所述投配阶段的第二时间段，其中，所述第二时间段在所述第一时间段开始之后开始，所述第一和第二时间段至少部分地重叠，所述第二工艺气体包括第二载气，并且在输送到所述衬底之前，所述第二工艺气体与所述第一工艺气体混合持续其中所述第二时间段与所述第一时间段重叠的至少一部分时间段，并且从(a)至(b)总工艺气体的体积流率增加；(c)停止(a)和(b)中的所述流动，其中所述第一工艺气体的至少一部分被吸附在所述衬底上；(d)在(c)之后，使被吸附的前体反应，以在所述衬底上形成膜层；以及(e)在(d)之后，在与(a)和(b)中的所述ALD沉积循环不同的ALD沉积循环期间针对所述衬底重复(a)和(b)。