[发明专利]半导体装置及其制造方法在审
| 申请号: | 201510920601.9 | 申请日: | 2015-12-11 |
| 公开(公告)号: | CN105702620A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
| 发明(设计)人: | 岩崎真也;荒川盛司 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 苏萌萌;范文萍 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种在接合衬垫上表面电极不易剥离的半导体装置及其制造方法。所提供的半导体装置具有:第一绝缘膜,其被形成在半导体基板上并具有第一接触孔;接触插塞,其位于第一接触孔内;第二绝缘膜,其被形成在导电层上,并且具有与第一接触孔相比宽度较宽的第二接触孔;侧面部金属层,其对所述第二接触孔的侧面与底面之间的角部进行覆盖,并且通过与接触插塞为同种的金属而构成;第一表面电极,其以从第二绝缘膜上跨至第二接触孔内的方式而延伸。第一表面电极对侧面部金属层进行覆盖,并通过与接触插塞不同的金属而构成。在第二接触孔的底面的上部的第一表面电极中形成有接合衬垫。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,具有:半导体基板;第一绝缘膜,其被形成在所述半导体基板上,并具有第一接触孔;接触插塞,其被配置在所述第一接触孔内;第一表面电极,其以从所述第一绝缘膜上跨至所述接触插塞上的方式而延伸;导电层,其被形成在形成有所述第一绝缘膜的一侧的所述半导体基板的表面上或露出于所述表面的半导体区域内;第二绝缘膜,其被形成在所述导电层上,并具有与所述第一接触孔相比宽度较宽的第二接触孔;侧面部金属层,其对所述第二接触孔的侧面与底面之间的角部进行覆盖,并通过与所述接触插塞为同种的金属而构成;第二表面电极,其以从所述第二绝缘膜上跨至所述第二接触孔内的方式而延伸,对所述侧面部金属层进行覆盖,并通过与所述接触插塞不同的金属而构成,在所述第二接触孔的所述底面的上部的第二表面电极中形成有接合衬垫。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





