[发明专利]检测顺式作用元件有无甲基化修饰或其修饰位点的方法在审

专利信息
申请号: 201510845595.5 申请日: 2015-11-26
公开(公告)号: CN105296655A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 李亚俊 申请(专利权)人: 北京市中医研究所;李亚俊
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 李进
地址: 100010 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及分子生物学领域,具体而言,涉及检测顺式作用元件有无甲基化修饰或其修饰位点的方法,该两种方法的出发点均属于一个总的发明构思,即靶向富集顺式作用元件,再用特异性识别甲基化位点的限制性内切酶进行酶切,随后以酶切前后的差异特征选取模板设计引物,将酶切与未酶切的DNA片段分别进行扩增以放大差异信号,比较两组的差异信息即获知顺式作用元件甲基化修饰位点或其有无甲基化修饰。该检测甲基化修饰位点的方法使用样本用量少、可减小或避免亚硫酸盐干扰后续数据分析以及实验误差较大的问题,实验结果可靠。检测有无甲基化修饰的方法简单可行,准确率高。
搜索关键词: 检测 顺式 作用 元件 有无 甲基化 修饰 方法
【主权项】:
一种检测顺式作用元件甲基化修饰位点的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:靶向富集顺式作用元件,在所述顺式作用元件的两端连接已知序列的小片段DNA,再用特异性识别甲基化位点的限制性内切酶进行酶切,随后以已连接的小片段DNA为模板设计的引物,将酶切与未酶切的DNA片段分别进行扩增,以放大差异信号,比较两组的差异信息即获知顺式作用元件甲基化修饰位点。
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