[发明专利]半导体加工用蒸发台的自清洁装置在审

专利信息
申请号: 201510806302.2 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105316627A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 史进;伍志军 申请(专利权)人: 苏州赛森电子科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 215699 江苏省苏州市张*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置,其包括有工作腔室,工作腔室下端面设置有用于放置金属物料的放置台,放置台内部设置有电热源,工作腔室上端部设置有用于固定圆片的固定台,固定台由设置在工作腔室外部的电机进行驱动;所述工作腔室的侧端面以及上端面内部均设置有夹套,夹套连接有冷却管道,冷却管道连接至设置在工作腔室外部的冷却水槽;采用上述技术方案的半导体加工用蒸发台的自清洁装置,其使得金属在蒸发过程中形成的气相金属接触工作腔室的侧端面与上端面之后,受其冷却形成液相金属滴落并可加以回收利用,从而一方面避免工作腔室内壁长时间沾附有气相金属而形成污垢,另一方面亦可改善原料的浪费。
搜索关键词: 半导体 工用 蒸发 清洁 装置
【主权项】:
一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置,其包括有工作腔室,工作腔室下端面设置有用于放置金属物料的放置台,放置台内部设置有电热源,工作腔室上端部设置有用于固定圆片的固定台,固定台由设置在工作腔室外部的电机进行驱动;其特征在于,所述工作腔室的侧端面以及上端面内部均设置有夹套,夹套连接有冷却管道,冷却管道连接至设置在工作腔室外部的冷却水槽。
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