[发明专利]半导体加工用蒸发台的自清洁装置在审
| 申请号： | 201510806302.2 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105316627A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 史进;伍志军 | 申请（专利权）人： | 苏州赛森电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 顾进 |
| 地址： | 215699 江苏省苏州市张*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半导体 工用 蒸发 清洁 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其包括有工作腔室，工作腔室下端面设置有用于放置金属物料的放置台，放置台内部设置有电热源，工作腔室上端部设置有用于固定圆片的固定台，固定台由设置在工作腔室外部的电机进行驱动；其特征在于，所述工作腔室的侧端面以及上端面内部均设置有夹套，夹套连接有冷却管道，冷却管道连接至设置在工作腔室外部的冷却水槽。
2.按照权利要求1所述的半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于，所述工作腔室之中，其侧端面内部的夹套面积与工作腔室的侧端面面积相等，工作腔室上端面内部的夹套面积至少为工作腔室上端面面积的1/2。
3.按照权利要求2所述的半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于，所述夹套与工作腔室内壁之间的距离至多为5厘米。
4.按照权利要求1所述的半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于，所述工作腔室底端面的高度在工作腔室的底边部朝向放置台延伸的方向上逐渐降低；所述放置台与工作腔室底端部的交汇位置设置有集液槽。
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