[发明专利]一种金相研磨抛光工艺在审

专利信息
申请号: 201510751777.6 申请日: 2015-11-06
公开(公告)号: CN105437050A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 程东华;程士弟 申请(专利权)人: 和县隆盛精密机械有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B19/00;B24B1/04;G01N1/32;C25F3/16
代理公司: 马鞍山市金桥专利代理有限公司 34111 代理人: 杨涛
地址: 238200 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种金相研磨抛光工艺,工艺步骤为:(1)金相试样表面清洗;(2)金相试样表面研磨;(3)金相试样抛光;(4)清洗;采用了超声波清洗机的振动对金相试样进行清洗和打磨,在对金相试样进行清洗时,超声波清洗机内部的液体为工业净水,在内部放入金刚石研磨砂、抛光膏和甘油进行清理,能够节约资源,先进行除油处理,能够避免给后续的研磨和抛光工艺造成影响,在金相试样的底部放置橡胶软底,避免在研磨过程中划伤表面,多次对金相试样进行烘干处理,可以避免易氧化的金属在操作的过程中发生氧化,保证金相试样表面色泽均匀无水斑,且避免了涂抹防锈剂,在真空环境下,保存时间较长。
搜索关键词: 一种 金相 研磨 抛光 工艺
【主权项】:
一种金相研磨抛光工艺,其特征在于,工艺步骤为:(1)金相试样表面清洗a.除尘清洗通过高压水枪以工业净水来冲洗金相试样的表面,对有重油污的金相试样表面采用高温工业净水,温度为45‑55℃,冲洗时间为10‑15min;b.表面除油将金相试样置于碱水中进行超声波清洗,清洗时间为10min,室温为20℃,并在清洗后,浸泡0.5‑2h;c.漂洗利用纯水对金相试样金相低压漂洗,漂洗时间为5‑10min;(2)金相试样表面研磨a.粗磨使用300‑2000目的水磨砂纸对金相试样进行打磨,打磨完成后放入净水中进行简单清洗;b.精磨采用研磨机对金相试样进行打磨,进行研磨时加入研磨液,在金相磨抛机上,在金相试样的底部放置橡胶软底,并在橡胶软底涂抹黄油,用以抵消研磨过程中的压力和摩擦力,避免在研磨过程中划伤表面;(3)金相试样抛光a.粗抛使用30‑900目的金相抛光纸对金相试样进行简单打磨,并喷射抛光剂,喷出时间为3‑6s;b.超声波抛光将金相试样置于超声波清洗机中进行抛光,并在超声波清洗机中加入金刚石研磨砂、抛光膏和甘油,抛光时间为30‑60min。c.电解质等离子抛光以金相试样为阳极,与直流稳压电源正极相连,浸入电解液中;以铂片为阴极,与直流稳压电源负极相连;两者相距一定距离浸入电解液中,电解液以硫酸﹑磷酸为基本成分,浸入电解抛光液中以5—8A的电流进行抛光,抛光温度为0—30℃;(4)清洗通过高压水枪以去离子水来冲洗金相试样的表面,冲洗时间为10‑20min。
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