[发明专利]一种金相研磨抛光工艺

权利要求书

1.一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，工艺步骤为：

(1)金相试样表面清洗

a.除尘清洗

通过高压水枪以工业净水来冲洗金相试样的表面，对有重油污的金相试样表面采用高温工业净水，温度为45-55℃，冲洗时间为10-15min；

b.表面除油

将金相试样置于碱水中进行超声波清洗，清洗时间为10min，室温为20℃，并在清洗后，浸泡0.5-2h；

c.漂洗

利用纯水对金相试样金相低压漂洗，漂洗时间为5-10min；

(2)金相试样表面研磨

a.粗磨

使用300-2000目的水磨砂纸对金相试样进行打磨，打磨完成后放入净水中进行简单清洗；

b.精磨

采用研磨机对金相试样进行打磨，进行研磨时加入研磨液，在金相磨抛机上，在金相试样的底部放置橡胶软底，并在橡胶软底涂抹黄油，用以抵消研磨过程中的压力和摩擦力，避免在研磨过程中划伤表面；

(3)金相试样抛光

a.粗抛

使用30-900目的金相抛光纸对金相试样进行简单打磨，并喷射抛光剂，喷出时间为3-6s；

b.超声波抛光

将金相试样置于超声波清洗机中进行抛光，并在超声波清洗机中加入金刚石研磨砂、抛光膏和甘油，抛光时间为30-60min。

c.电解质等离子抛光

以金相试样为阳极，与直流稳压电源正极相连，浸入电解液中；以铂片为阴极，与直流稳压电源负极相连；两者相距一定距离浸入电解液中，电解液以硫酸﹑磷酸为基本成分，浸入电解抛光液中以5—8A的电流进行抛光，抛光温度为0—30℃；

(4)清洗

通过高压水枪以去离子水来冲洗金相试样的表面，冲洗时间为10-20min。

2.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(1)之后，对金相试样表面擦干，用热风机吹去金相试样表面的水分，并用白色绒布檫干表面的残留水分。

3.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(2)的精磨b步骤中的研磨液采用多晶金刚石研磨液。

4.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(3)中粗抛a步骤中抛光剂的成分为：蚀刻剂45％，光亮剂22％，修复剂15％，其他活性剂13％。

5.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(3)中超声波抛光b步骤中，超声波清洗机内组成甘油15—20％、抛光膏25—30％、金刚石研磨砂40—50％、余量为水。

6.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(3)中电解质等离子抛光c步骤中，电解液的质量比为浓硫酸5％—10％、浓磷酸12％—15％和水75—80％。

7.根据权利要求6所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(3)中电解质等离子抛光c步骤中，采用高频高压窄脉冲电场对金相试样进行等离子电浆抛光。

8.根据权利要求1所述的一种金相研磨抛光工艺，其特征在于，所述步骤(4)之后，采用热氮气或电加热炉烘干金相试样表面水分以保证金相试样表面色泽均匀无水斑，完成后放置于真空保证。