[发明专利]一种金相研磨抛光工艺在审
申请号: | 201510751777.6 | 申请日: | 2015-11-06 |
公开(公告)号: | CN105437050A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 程东华;程士弟 | 申请(专利权)人: | 和县隆盛精密机械有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B19/00;B24B1/04;G01N1/32;C25F3/16 |
代理公司: | 马鞍山市金桥专利代理有限公司 34111 | 代理人: | 杨涛 |
地址: | 238200 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金相 研磨 抛光 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及金相样品制备技术领域,特别涉及一种金相研磨抛光工艺。
背景技术
金相试样的制作约占金相分析总时间的2/3,如何提高金相制样效率具有十分重要的意义。
传统的金相制样采用手工磨制,效率较低,机械后的试样,须要求经过精密磨面,金相试验人员在玻璃板上铺上金相砂纸、用手工进行4-5道磨制,砂纸粒级越来越细,从(180#-)240#-400#-600#-800#依次磨削,精细磨样需增加至1000#甚至1200#,并且每更换一道砂纸,同时需清理试样、台面。磨制工序完成后,进行粗抛光和精抛光。这样,一个试样全部流程下来约花费0.5h制作完成,不仅浪费时间且浪费人力资源。
现有的金相研磨抛光工艺为:
制样:利用镶嵌粉(又名胶木粉)和镶嵌机将待观察的钢铁样品制成金相样品。镶嵌温度一股在110℃~150℃。
磨样:利用不同颗粒度水磨砂纸将金相样品进行打磨处理,每次打磨方向与前次打磨方向成90°角,每次打磨将前次打磨划痕磨去即可,最后打磨的砂纸规格为1500#水磨砂纸,划痕方向统一均匀。
抛光:在抛光机上利用抛光布和抛光剂将打磨后金相样品表面划痕去除,使样品表面光滑无划痕。抛光剂一股选用金刚石抛光膏或金刚石研磨液。
侵蚀:将抛光后的金相样品,放入侵蚀剂中进行侵蚀,侵蚀一段时间后用纯净水洗去侵蚀剂,吹干后即可进行金相观察。
在整个工艺过程中,并没有对金相样品金相防锈处理,所以在金相样品制备过程中,尤其在侵蚀后,极容易在表面氧化并产生污迹,影响金相组织的观察。
且金相试样的抛光沿用较多的还是传统的机械抛光工艺,这种抛光工艺通常是除油后高温酸洗,酸洗液中多含有铬酸、氢氟酸、硝酸等毒害较大物质,酸洗液的主要作用是去除氧化皮提高金属制品的光洁度,但高温酸洗时间长,这不仅使生产成本高,而且内含的有毒酸挥发性大,极易污染环境和腐蚀设备。
申请号为CN200910204809.5的中国发明专利,本发明公开了一种金相试样制作的工艺方法,包括如下步骤:a)锯切样品快速磨削:使用改为砂轮磨盘的光谱退役的磨样机,用一次可装夹8-10个试样的磨样夹具快速磨样,手工握持,在磨样机上进行快速磨削,表面粗糙度至Ra1.6-0.8um,达到精密磨削的要求;b)金相磨样;c)金相抛光。与现有技术相比,本发明的优点在于,它可以方便、快速地进行金相制样工作,既保证制样质量、分析质量,又可节约成本、提高效率。
申请号为CN201110008675.7的中国发明专利,一种硅钢金相样品制备方法。制备方法为:硅钢金相样品制样后,用不同颗粒度的水磨砂纸进行打磨,再机械抛光去除样品表面划痕,将样品清洗干净并吹干,利用侵蚀剂侵蚀,侵蚀完成后立即用纯净水冲洗,冲洗时加入十二烷基磺酸钠水溶剂并配合柔软皮布进行摩擦处理,摩擦处理后再用纯净水将样品清洗干净,吹干样品后即可在普通金相显微镜下进行硅钢样品金相观察。优点在于,解决了金相试样制备过程中表面因氧化影响观察的问题。并且操作简便,容易实现。
申请号为CN201310085308.6的中国发明专利,一种用于变形镁合金不同微观组织状态的金相显示方法,其主要包括金相试样制备、砂纸粗磨—细磨、机械抛光及电解抛光的具体操作,并提供一种与现有技术不同的电解抛光液,又针对铸态、固溶态、球化态和时效态镁合金组织提供各自不同的电解抛光工艺。本发明提供的电解抛光液,其容易制备、操作简单;针对镁合金的不同微观组织的电解抛光工艺,可提高金相显示的质量;本发明提供的粗磨-细磨以及机械抛光的具体操作可提高金相制备的质量。
复合抛光是机械法和电解法两种研磨方式的组合,复合抛光综合了机械抛光和电解抛光的优点,在现有技术的整个工艺过程中,并没有对金相样品金相防锈处理,所以在金相样品制备过程中,尤其在侵蚀后,极容易在表面氧化并产生污迹,影响金相组织的观察,且并没有对金相样品进行除油除污处理,容易给后续的研磨和抛光工艺造成影响。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种金相研磨抛光工艺,以解决现有技术中导致的上述没有对金相样品金相防锈处理,所以在金相样品制备过程中,尤其在侵蚀后,极容易在表面氧化并产生污迹,影响金相组织的观察,且并没有对金相样品进行除油除污处理,容易给后续的研磨和抛光工艺造成影响的缺陷。
为实现上述目的,本发明提供以下的技术方案:一种金相研磨抛光工艺,其特征在于,工艺步骤为:
(1)金相试样表面清洗
a.除尘清洗
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