[发明专利]流体处理装置

摘要

本发明公开流体处理装置，包括机架(16),固定在机架上的下阀体(5),装置中心设置有空心主轴(1),主轴上安装有回转分配器(7,8),主轴上端安装有上阀体(2),上下阀体之间设置有1对环形密封板(3,4),环形密封板以中心轴线为中心,沿环形位置均匀分布有内外两圈通孔,这些通孔与上下阀体分别对应，装置机架周围布置有化学反应容器(17)，化学反应容器、阀体密封板及回转分配器之间通过管路(12,11,15,10,9)连接，装置还设置有驱动机构(13),用于驱动上阀体、主轴及回转分配器上端做分度旋转，从而实现将工艺进出料口的流体，按要求分别分配到不同的化学容器中。

主权项

1.一种流体处理装置，其特征在于：包括中心轴体(1)，中心轴体(1)外分别套接上下叠加的上阀体(2)和下阀体(5)，其中下阀体(5)固定在一机架(16)上，中心轴体(1)可相对于下阀体(5)旋转，且上阀体(2)和下阀体(5)两者之间也可相对旋转；上阀体(2)和下阀体(5)之间设有互相配合的管路(14/11)；中心轴体(1)的下端安装有回转分配器，它包括上回转分配器(7)和下回转分配器(8)，其中，下回转分配器(8)固定在机架(16)上，上回转分配器(7)和中心轴体(1)构成同步旋转关系，上回转分配器(7)可相对于下回转分配器(8)旋转；回转分配器内设有管路，其通过连接管和上阀体(2)的管路(14)连通配合，化学反应容器(17)设于地面或机架(16)上，其通过连接管和下阀体(5)的管路(11)连通配合。