[发明专利]流体处理装置有效

专利信息
申请号: 201510740189.2 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN105370920B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 叶胜;兰春光;蓝伟光 申请(专利权)人: 三达膜科技(厦门)有限公司
主分类号: F16K11/074 分类号: F16K11/074;F16K27/00;F16K51/00
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 李雁翔;游学明
地址: 361000 福建省厦门市集*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 流体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种流体处理装置,其特征在于:包括中心轴体(1),中心轴体(1)外分别套接上下叠加的上阀体(2)和下阀体(5),其中下阀体(5)固定在一机架(16)上,中心轴体(1)可相对于下阀体(5)旋转,且上阀体(2)和下阀体(5)两者之间也可相对旋转;上阀体(2)和下阀体(5)之间设有互相配合的管路(14/11);

中心轴体(1)的下端安装有回转分配器,它包括上回转分配器(7)和下回转分配器(8),其中,下回转分配器(8)固定在机架(16)上,上回转分配器(7)和中心轴体(1)构成同步旋转关系,上回转分配器(7)可相对于下回转分配器(8)旋转;

回转分配器内设有管路,其通过连接管和上阀体(2)的管路(14)连通配合,

化学反应容器(17)设于地面或机架(16)上,其通过连接管和下阀体(5)的管路(11)连通配合。

2.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:还包括驱动上阀体(2)和中心轴体(1)旋转的驱动机构(13)。

3.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:上阀体(2)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(14),下阀体(5)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(11)。

4.如权利要求1或2或3所述的一种流体处理装置,其特征在于:上阀体(2)的下表面和下阀体(5)的上表面之间设上环形密封板(3)和下环形密封板(4)。

5.如权利要求4所述的一种流体处理装置,其特征在于:上环形密封板(3)和下环形密封板(4)沿环形位置分别均匀分布有内外两圈通孔,上阀体(2)的管路(14)和下阀体的管路(11)通过上下环形密封板的通孔连通。

6.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:上回转分配器(7)和下回转分配器(8)分别设有多组相对切换配合的管路,所述回转分配器上下两个部分能够在任意相对旋转角度保持对应管路的连通。

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