[发明专利]一种印刷型高分辨率显示器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201510739686.0 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN105336881A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 陈亚文 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种印刷型高分辨率显示器件及其制作方法。本发明在像素bank的制作过程中,对像素发光区域进行全曝光,相同颜色子像素相邻区域进行半曝光,不同颜色子像素相连区域不曝光,通过刻蚀、显影等处理将像素bank图案化,其中相同颜色子像素相连区域的像素bank较薄,定义子像素发光区域,不同颜色子像素相连区域bank较厚,定义印刷工艺中的墨水沉积区域,从而成倍的增大墨水的沉积区域,可以有效减小各子像素的面积,结合像素bank表面疏水处理,实现印刷型高分辨显示器的制作。
搜索关键词: 一种 印刷 高分辨率 显示 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种印刷型高分辨率显示器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:A1、在具有图案化底电极的TFT基板上形成一层用于制作像素bank的薄膜层,然后在薄膜层上形成一层光阻层;A2、通过曝光掩膜对光阻层进行曝光,其中子像素发光区域进行全曝光、相同颜色子像素相连区域进行半曝光、不同颜色子像素相连区域不曝光,随后进行显影以将光阻层图案化;A3、通过光阻掩膜对薄膜层进行刻蚀,将全曝光区域全部刻蚀至露出像素电极,将半曝光区域部分刻蚀至残留部分薄膜层,未曝光区域未被刻蚀,随后剥离光阻层,从而形成所需的厚度不一的像素bank;A4、对完成上述步骤的TFT基板进行清洗,随之对其进行表面疏水处理,形成疏水的像素bank表面;A5、通过印刷工艺依次沉积各色子像素发光元件,最后沉积电极,并对器件进行封装;不同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为1000nm-3000nm;相同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为100nm-500nm。
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