[发明专利]一种印刷型高分辨率显示器件及其制作方法

权利要求书

1.一种印刷型高分辨率显示器件的制作方法，其特征在于，包括步骤：

A1、在具有图案化底电极的TFT基板上形成一层用于制作像素bank的薄膜层，然后在薄膜层上形成一层光阻层；

A2、通过曝光掩膜对光阻层进行曝光，其中子像素发光区域进行全曝光、相同颜色子像素相连区域进行半曝光、不同颜色子像素相连区域不曝光，随后进行显影以将光阻层图案化；

A3、通过光阻掩膜对薄膜层进行刻蚀，将全曝光区域全部刻蚀至露出像素电极，将半曝光区域部分刻蚀至残留部分薄膜层，未曝光区域未被刻蚀，随后剥离光阻层，从而形成所需的厚度不一的像素bank；

A4、对完成上述步骤的TFT基板进行清洗，随之对其进行表面疏水处理，形成疏水的像素bank表面；

A5、通过印刷工艺依次沉积各色子像素发光元件，最后沉积电极，并对器件进行封装；

不同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为1000nm-3000nm；

相同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为100nm-500nm。

2.一种印刷型高分辨率显示器件的制作方法，其特征在于，包括步骤：

B1、在具有图案化底电极的TFT基板上形成一层用于制作像素bank的光阻层；

B2、通过曝光掩膜对光阻层进行曝光，其中子像素发光区域进行全曝光、相同颜色子像素相连区域进行半曝光、不同颜色子像素相连区域不曝光；

B3、随后进行显影处理，将全曝光区域光阻层全部去除，露出像素电极，半曝光区域光阻层部分去除，未曝光区域光阻层不变，从而形成所需的厚度不一的像素bank；

B4、对完成上述步骤的TFT基板进行清洗，随之对其进行表面疏水处理，形成疏水的像素bank表面；

B5、通过印刷工艺依次沉积各色子像素发光元件，最后沉积电极，并对器件进行封装；

不同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为1000nm-3000nm；

相同颜色子像素相连区域的像素bank的厚度为100nm-500nm。

3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述步骤A4或B4中，对TFT基板进行表面氟化疏水处理。

4.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述TFT基板上的像素结构包括三种颜色的子像素构成的多个像素单元；每一像素单元由三种子像素成品字型排列形成正方形结构。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。

6.一种印刷型高分辨率显示器件，其特征在于，采用如权利要求1所述的制作方法制成。

7.一种印刷型高分辨率显示器件，其特征在于，采用如权利要求2所述的制作方法制成。