[发明专利]显示装置、COA基板及其制造方法在审
申请号: | 201510697888.3 | 申请日: | 2015-10-23 |
公开(公告)号: | CN105372889A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 武岳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种COA基板的制造方法,包括:在衬底基板上形成薄膜晶体管;在薄膜晶体管上形成第二绝缘层;在第二绝缘层上形成色阻层;在色阻层上形成第三绝缘层;形成露出薄膜晶体管的漏极的至少一个过孔;在第三绝缘层上形成ITO膜层;在ITO膜层上形成光阻层;对过孔区域ITO膜层上的光阻层进行遮光处理,并对非过孔区域ITO膜层上的光阻层进行曝光处理;对过孔区域ITO膜层上的光阻层和非过孔区域ITO膜层上的光阻层进行显影处理,以得到覆盖在过孔区域ITO膜层上的光阻层塞子。本发明还公开一种显示装置和COA基板。通过上述方式,本发明利用光阻将过孔的洞口填满,能够提高显示装置的面板的品质。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 coa 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种COA基板的制造方法,包括:在衬底基板上形成薄膜晶体管,其中所述薄膜晶体管包括设置在所述衬底基板上的第一金属层、设置在所述第一金属层上的第一绝缘层、设置在所述第一绝缘层上的半导体活性层以及设置在所述半导体活性层上的第二金属层,所述第二金属层形成所述薄膜晶体管的漏极;在所述薄膜晶体管上形成第二绝缘层;在所述第二绝缘层上形成色阻层;在所述色阻层上形成第三绝缘层;形成露出所述薄膜晶体管的漏极的至少一个过孔;其特征在于,所述方法还包括:在所述第三绝缘层上形成ITO膜层,其中所述ITO膜层包括设置在所述过孔上的过孔区域ITO膜层和设置在所述过孔外的非过孔区域ITO膜层;在所述ITO膜层上形成光阻层;对所述过孔区域ITO膜层上的所述光阻层进行遮光处理,并对所述非过孔区域ITO膜层上的所述光阻层进行曝光处理;对所述过孔区域ITO膜层上的所述光阻层和所述非过孔区域ITO膜层上的所述光阻层进行显影处理,以得到覆盖在所述过孔区域ITO膜层上的光阻层塞子。
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