[发明专利]对准精度测量的图形结构有效
| 申请号： | 201510662782.X | 申请日： | 2015-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN105204299B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 王艳云;毛智彪;杨正凯 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对准精度测量的图形结构，所述对准精度测量的图形结构至少包括被对准图形的外框及对准图形的内框，其中，所述被对准图形的外框及对准图形的内框为八角形结构；应用了前述的对准精度测量的图形结构的多层间对准测量方法，其至少包括以下步骤：形成第一层外部被对准记号；旋转一定角度后形成第二层外部被对准记号；形成第三层八角形内部对准记号。采用本发明的对准精度测量的图形结构通过收集更多矢量值，优化对准模型，计算出高阶系数，提高补偿值的准确性、稳定性、可靠性，去除了对准过程中的冗余，提高了对准精度；同时，可进行多层次之间对准精度量测，节省切割道占用空间；以及减小先进技术Double Patterning光刻层对准误差的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 对准精度测量 图形结构 对准图形 对准记号 对准 内框 外框 八角形结构 对准测量 对准误差 高阶系数 精度量测 先进技术 占用空间 矢量 八角形 第三层 第一层 光刻层 切割道 冗余 外部 多层 减小 应用 优化 | ||
【主权项】：
1.一种多层间对准测量方法，所述多层间对准测量方法用于测试对准精度测量的图形结构，所述对准精度测量的图形结构至少包括被对准图形的外框及对准图形的内框，所述被对准图形的外框及对准图形的内框为八角形结构，其特征在于，所述的多层间对准测量方法至少包括以下步骤：形成第一层外部被对准记号；旋转一定角度后形成第二层外部被对准记号；形成第三层八角形内部对准记号。
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