[发明专利]一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备在审

专利信息
申请号: 201510658127.7 申请日: 2015-10-13
公开(公告)号: CN105132861A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 李晓虎;孙中元 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备,涉及显示设备制造领域,能够改善蒸镀的薄膜层厚度不均一的问题。该蒸镀掩膜版包括间隔设置的遮挡区和蒸镀区,遮挡区设置有遮挡部,蒸镀掩膜版还包括至少覆盖蒸镀区的挡板;挡板包括多个蒸镀子区,每个蒸镀子区中设置有多个开孔;多个蒸镀子区中包括一个第一蒸镀子区,相对于其余蒸镀子区,第一蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和最小;距离第一蒸镀子区越近的蒸镀子区,该蒸镀子区中单位面积内所以开孔的面积总和越小。
搜索关键词: 一种 蒸镀掩膜版 以及 设备
【主权项】:
一种蒸镀掩膜版,包括间隔设置的遮挡区和蒸镀区,所述遮挡区设置有遮挡部,其特征在于,所述蒸镀掩膜版还包括至少覆盖所述蒸镀区的挡板;所述挡板包括多个蒸镀子区,每个所述蒸镀子区中设置有多个开孔;所述多个蒸镀子区中包括一个第一蒸镀子区,相对于其余蒸镀子区,所述第一蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和最小;距离所述第一蒸镀子区越近的蒸镀子区,该蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和越小。
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