[发明专利]一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示设备制造领域，尤其涉及一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备。

背景技术

随着显示技术的急速进步，作为显示装置核心的半导体元件技术也随之得到了飞跃性的进步。对于现有的显示装置而言，有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)作为一种电流型发光器件，因其所具有的自发光、快速响应、宽视角和可制作在柔性衬底上等特点而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。

现有技术中OLED器件包括阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的功能层。所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层以及电子注入层。其中，有机发光层的成膜方法有很多种，包括蒸镀成膜法、分子束外延法、有机化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等；其中，蒸镀成膜法由于具有操作简单、膜厚容易控制、对薄膜的污染小以及易于实现掺杂等优点，现有技术中多采用蒸镀成膜法形成有机发光层等有机功能膜层，即在真空环境下，将有机材料加热使其蒸发(升华)，并沉积到目标基板上形成对应的膜层。

然而，在蒸镀上述功能层的过程中，由于从蒸镀源蒸发出的物质呈圆锥型放射状向基板扩散并沉积，容易造成基板上形成的膜层存在厚度不均一的问题，导致显示面板出现亮度或色彩差异，从而降低了产品质量。

发明内容

本发明的实施例提供一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备，能够改善蒸镀的薄膜层厚度不均一的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种蒸镀掩膜版，包括间隔设置的遮挡区和蒸镀区，所述遮挡区设置有遮挡部，所述蒸镀掩膜版还包括至少覆盖所述蒸镀区的挡板；所述挡板包括多个蒸镀子区，每个所述蒸镀子区中设置有多个开孔；所述多个蒸镀子区中包括一个第一蒸镀子区，相对于其余蒸镀子区，所述第一蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和最小；距离所述第一蒸镀子区越近的蒸镀子区，该蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和越小。

优选的，所述第一蒸镀子区为圆形且位于所述蒸镀区的中心位置；其余蒸镀子区呈环形与所述第一蒸镀子区同心，并包裹所述第一蒸镀子区；依次远离所述第一蒸镀子区的呈环形的蒸镀子区的面积依次增大。

优选的，所述挡板通过支架固定于所述遮挡部上，用于使得所述挡板与所述遮挡部之间具有间隙。

优选的，所述支架的高度为15cm～30cm。

优选的，所述第一蒸镀子区中开孔的孔径为4.5mm～6.5mm。

优选的，除了所述第一蒸镀子区以外的蒸镀子区中开孔的孔径为9.5mm～10.5mm。

优选的，所述挡板的厚度为1.5mm～3.5mm。

优选的，构成所述挡板的材料为树脂材料或金属材料，所述树脂材料或所述金属材料的耐受温度大于等于200℃。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀设备，包括如上所述的任意一种蒸镀掩膜版。

优选的，还包括蒸镀源，挡板相对于遮挡部靠近所述蒸镀源。

本发明实施例提供一种蒸镀掩膜版以及蒸镀设备，该蒸镀掩膜版包括间隔设置的遮挡区和蒸镀区，遮挡区设置有遮挡部，所述蒸镀掩膜版还包括至少覆盖蒸镀区的挡板。挡板包括多个蒸镀子区，每个蒸镀子区中设置有多个开孔。上述多个蒸镀子区中包括一个第一蒸镀子区，相对于其余蒸镀子区，该第一蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和最小。并且距离第一蒸镀子区越近的蒸镀子区，该蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和越小。

这样一来，当第一蒸镀子区与现有技术中蒸镀薄膜层的基板上，薄膜层厚度最厚的位置相对应时，由于第一蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和相对于其余蒸镀子区最小，因此通过第一蒸镀子区中单位面积的蒸镀材料的量最少。此外，由于距离第一蒸镀子区越近的蒸镀子区，该蒸镀子区中单位面积内所有开孔的面积总和越小，因此通过距离第一蒸镀子区越近的蒸镀子区中单位面积的蒸镀材料的量越少，而通过距离第一蒸镀子区越远的蒸镀子区中单位面积的蒸镀材料的量越多。从而使得现有技术中，原本在基板上形成的薄膜层较厚的位置，通过本发明提供的蒸镀掩膜版进行蒸镀后，薄膜层的厚度有所减少，而原本厚度较薄的位置形成薄膜层的厚度有所增加。进而减小了现有技术中蒸镀薄膜层的基板上薄膜层的厚度差异，改善了薄膜层厚度不均一的问题。

附图说明