[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置、掩膜板

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制作方法、一种显示装置、掩膜板。所述阵列基板的制作方法包括：S1、形成包括栅极和栅线的图形；S2、形成绝缘层；S3、形成包括有源层的图形，其中，所述有源层所在的区域包括对应于栅极的第一区域和位于第一区域两侧的第二区域；S4、形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部、第一部和第二部，所述第二部的厚度小于所述第一部的厚度；S5、对所述绝缘层进行刻蚀，以形成露出所述栅线的一部分的过孔；S6、对所述掩膜图形对应于所述第二区域的部分进行灰化，以将所述掩膜图形对应于第二区域的部分去除，并对所述有源层进行离子注入。本发明可以减少制作工艺中掩膜板的使用量。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：S1、形成包括栅极和栅线的图形；S2、形成绝缘层；S3、形成包括有源层的图形，其中，所述有源层所在的区域包括对应于栅极的第一区域和位于第一区域两侧的第二区域；S4、形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部、第一部和第二部，所述镂空部用于将栅线的一部分对应的绝缘层露出，所述第二部对应于所述第二区域中的一部分区域，所述第一部为所述掩膜图形上镂空部和第二部以外的部分，所述第二部的厚度小于所述第一部的厚度；S5、对所述绝缘层进行刻蚀，以形成露出所述栅线的一部分的过孔；S6、对所述掩膜图形对应于所述第二区域的部分进行灰化，以将所述掩膜图形对应于第二区域的部分去除，并对所述有源层进行离子注入。