[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置

摘要

本发明是关于一种阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成第一金属图案；在形成有第一金属图案的衬底基板上形成绝缘层；在形成有绝缘层的衬底基板的外围区域形成静电屏蔽层；在形成有静电屏蔽层的衬底基板的外围区域形成外围区域金属层；在外围区域金属层和静电屏蔽层上，通过构图工艺形成外围图案。本发明通过在外围区域形成静电屏蔽层，之后在外围区域的静电屏蔽层上形成金属层，解决了相关技术中外围区域的金属层在形成时可能和第一金属图案产生ESD而破坏阵列基板上的电路，产品良率较低的问题；达到了避免外围区域的金属层在形成时和第一金属图案产生ESD的效果，提高了产品良率。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成第一金属图案；在形成有所述第一金属图案的衬底基板上形成绝缘层；在形成有所述绝缘层的衬底基板上形成包括半导体层的图案；在形成有所述半导体层的衬底基板的显示区域形成透明导电膜层；在形成有所述透明导电膜层的衬底基板的显示区域形成金属层；在所述透明导电膜层和所述金属层上，通过构图工艺形成第一图案，所述第一图案在所述衬底基板上的正投影与金属电极在所述衬底基板上的正投影的形状相同，所述金属电极包括源极、漏极和像素电极；在形成所述第一图案的金属层上，通过构图工艺形成包括所述漏极的图案；在形成有所述绝缘层的衬底基板的外围区域形成静电屏蔽层，形成有所述绝缘层的衬底基板的显示区域形成有像素电极，所述静电屏蔽层和所述像素电极是在一次构图工艺中形成的；在形成有所述静电屏蔽层的衬底基板的外围区域形成外围区域金属层；在所述外围区域金属层和所述静电屏蔽层上，通过构图工艺形成外围图案，所述外围图案的形状与所述外围区域的金属图案的形状相同。