[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成第一金属图案；

在形成有所述第一金属图案的衬底基板上形成绝缘层；

在形成有所述绝缘层的衬底基板上形成包括半导体层的图案；

在形成有所述半导体层的衬底基板的显示区域形成透明导电膜层；

在形成有所述透明导电膜层的衬底基板的显示区域形成金属层；

在所述透明导电膜层和所述金属层上，通过构图工艺形成第一图案，所述第一图案在所述衬底基板上的正投影与金属电极在所述衬底基板上的正投影的形状相同，所述金属电极包括源极、漏极和像素电极；

在形成所述第一图案的金属层上，通过构图工艺形成包括所述漏极的图案；

在形成有所述绝缘层的衬底基板的外围区域形成静电屏蔽层，形成有所述绝缘层的衬底基板的显示区域形成有像素电极，所述静电屏蔽层和所述像素电极是在一次构图工艺中形成的；

在形成有所述静电屏蔽层的衬底基板的外围区域形成外围区域金属层；

在所述外围区域金属层和所述静电屏蔽层上，通过构图工艺形成外围图案，所述外围图案的形状与所述外围区域的金属图案的形状相同。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成有所述绝缘层的衬底基板的显示区域形成有静电屏蔽层，所述显示区域的静电屏蔽层和所述外围区域的静电屏蔽层是同时形成的透明导电膜层，

所述在形成有所述静电屏蔽层的衬底基板的外围区域形成外围区域金属层，包括：

在形成有所述透明导电膜层的衬底基板上形成金属层；

所述在所述外围区域金属层和所述静电屏蔽层上，通过构图工艺形成外围图案，包括：

在所述金属层和所述透明导电膜层上，通过构图工艺形成第二图案，所述第二图案在所述衬底基板上的正投影与预设金属图案在所述衬底基板上的正投影的形状相同，所述预设金属图案包括源极、漏极、像素电极和所述外围区域的金属图案；

在形成所述第二图案的金属层上，通过构图工艺形成包括所述漏极的图案。

3.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底基板；

所述衬底基板上设置有第一金属图案；

所述第一金属图案的衬底基板上设置有绝缘层；

设置有所述绝缘层的衬底基板上设置有包括半导体层的图案；

所述半导体层的衬底基板的显示区域设置有形状与第一图案相同的透明导电膜层，所述第一图案在所述衬底基板上的正投影与金属电极在所述衬底基板上的正投影的形状相同，所述金属电极包括源极、漏极和像素电极；

所述形状与第一图案相同的透明导电膜层的衬底基板的所述显示区域设置有所述源极和所述漏极；

所述绝缘层的衬底基板的外围区域依次设置有静电屏蔽层和外围区域金属层，所述外围区域金属层的图案和所述静电屏蔽层的图案相同，所述静电屏蔽层为透明导电膜层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，

所述衬底基板上设置有形状与第二图案相同的透明导电膜层，所述第二图案在所述衬底基板上的正投影与预设金属图案在所述衬底基板上的正投影的形状相同，所述预设金属图案包括源极、漏极、像素电极和所述外围区域金属层；

所述形状与第二图案相同的透明导电膜层的衬底基板上设置有所述源极、所述漏极和所述外围区域金属层。

5.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求3或4所述的阵列基板。