[发明专利]掩模板及其制备方法在审
申请号: | 201510640313.8 | 申请日: | 2015-09-30 |
公开(公告)号: | CN105116682A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 陈曦;毛国琪;刘明悬;刘正;张治超;张小祥 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/76;G02F1/153;G02F1/155;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种掩模板及其制备方法。所述掩模板包括多层图案单元,且任意两层图案单元之间绝缘;每层图案单元与一个电极单元连接,且每个电极单元仅与一层图案单元连接;每层图案单元包括第一透明电极层、第二透明电极层和设置在其二者之间的电致变色层;所述电极单元向与其连接的图案单元中的第一透明电极层和第二透明电极层中的至少一个施加电压,使其二者之间的电致变色层的透光率改变。上述一个掩模板可以生成多种掩模图案,这样只需改变不同电极单元施加在相应的图案单元中的电压即可形成所需的掩模图案,而无需更换掩模板,这样省去了更换掩模板的时间,有利于提高生产效率;同时,还减少了掩模板的需求量,从而节省大量的资源和场地空间。 | ||
搜索关键词: | 模板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,包括多层图案单元,且任意两层图案单元之间绝缘;每层图案单元与一个电极单元连接,且每个电极单元仅与一层图案单元连接;每层图案单元包括第一透明电极层、第二透明电极层和设置在其二者之间的电致变色层;所述电极单元向与其连接的图案单元中的第一透明电极层和第二透明电极层中的至少一个施加电压,使其二者之间的电致变色层的透光率改变。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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