[发明专利]掩模板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510640313.8 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN105116682A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: 陈曦;毛国琪;刘明悬;刘正;张治超;张小祥 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/76;G02F1/153;G02F1/155;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种掩模板及其制备方法。所述掩模板包括多层图案单元,且任意两层图案单元之间绝缘;每层图案单元与一个电极单元连接,且每个电极单元仅与一层图案单元连接;每层图案单元包括第一透明电极层、第二透明电极层和设置在其二者之间的电致变色层;所述电极单元向与其连接的图案单元中的第一透明电极层和第二透明电极层中的至少一个施加电压,使其二者之间的电致变色层的透光率改变。上述一个掩模板可以生成多种掩模图案,这样只需改变不同电极单元施加在相应的图案单元中的电压即可形成所需的掩模图案,而无需更换掩模板,这样省去了更换掩模板的时间,有利于提高生产效率;同时,还减少了掩模板的需求量,从而节省大量的资源和场地空间。
搜索关键词: 模板 及其 制备 方法
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,包括多层图案单元,且任意两层图案单元之间绝缘;每层图案单元与一个电极单元连接,且每个电极单元仅与一层图案单元连接;每层图案单元包括第一透明电极层、第二透明电极层和设置在其二者之间的电致变色层;所述电极单元向与其连接的图案单元中的第一透明电极层和第二透明电极层中的至少一个施加电压,使其二者之间的电致变色层的透光率改变。
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