[发明专利]用于胶印的移印版及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510634467.6 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN105459577B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 李东炫;黄智泳;李承宪;徐汉珉;林枪润 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: B41F13/193 分类号: B41F13/193;B41F17/00
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 朱梅;李海明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种用于胶印的移印版及其制备方法。根据本发明的示例性实施方式的用于胶印的移印版是包括沟槽图案的用于胶印的移印版,并且,所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案,所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分,以及所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25。
搜索关键词: 移印版 胶印 沟槽图案 网状图案 沟槽线 制备 蚀刻 线形成 穿过
【主权项】:
1.一种用于胶印的移印版,其包括:沟槽图案,其中,所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案,所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分,以及所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25,并且其中,所述交叉部分的形状是平行四边形,以及所述交叉部分的最大线宽是平行四边形长轴的长度,其中,所述交叉部分的最大线宽由以下等式1表示[等式1]在等式1中,x是所述交叉部分的最大线宽,c是所述平行四边形长边的长度,以及θ是所述沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形成的角度,并且θ是大于27°且在90°以下。
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