[发明专利]用于胶印的移印版及其制备方法有效
| 申请号： | 201510634467.6 | 申请日： | 2015-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN105459577B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 李东炫;黄智泳;李承宪;徐汉珉;林枪润 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B41F13/193 | 分类号： | B41F13/193;B41F17/00 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;李海明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 移印版 胶印 沟槽图案 网状图案 沟槽线 制备 蚀刻 线形成 穿过 | ||
1.一种用于胶印的移印版，其包括：
沟槽图案，
其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分，以及所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25，并且
其中，所述交叉部分的形状是平行四边形，以及所述交叉部分的最大线宽是平行四边形长轴的长度，
其中，所述交叉部分的最大线宽由以下等式1表示
[等式1]
在等式1中，x是所述交叉部分的最大线宽，c是所述平行四边形长边的长度，以及θ是所述沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形成的角度，并且θ是大于27°且在90°以下。
2.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的线高的比是20以下。
3.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，所述沟槽图案的线宽是10μm以下，蚀刻深度是10μm以下，以及节距是600μm以下。
4.一种制备用于胶印的移印版的方法，所述方法包括：
在基板上形成掩膜图案；和
通过利用所述掩膜图案蚀刻所述基板形成沟槽图案，
其中，所述沟槽图案包括由沟槽线形成的网状图案，所述网状图案包括通过接触或穿过所述沟槽线中的许多线形成的交叉部分，并且所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的蚀刻深度的比小于25，并且
其中，所述交叉部分的形状是平行四边形，以及所述交叉部分的最大线宽是平行四边形长轴的长度，
其中，所述交叉部分的最大线宽由以下等式1表示
[等式1]
在等式1中，x是所述交叉部分的最大线宽，c是所述平行四边形长边的长度，以及θ是所述沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形成的角度，并且θ是大于27°且在90°以下。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述沟槽图案的形成包括通过控制所述沟槽线中的许多线彼此接触或交叉时形成的角度来调节所述交叉部分的最大线宽和所述交叉部分的线高的比小于25。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述沟槽图案的线宽是10μm以下，蚀刻深度是10μm以下，以及节距是600μm以下。
7.一种通过使用权利要求1至3中任意一项所述的用于胶印的移印版印刷的印刷品。
8.一种触摸面板，其包括根据权利要求7所述的印刷品。
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