[发明专利]压印装置、压印系统和物品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510570346.X 申请日: 2015-09-09
公开(公告)号: CN105425538B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 佐藤浩司;诸星洋;高林幸夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种压印装置、压印系统和物品的制造方法。所述压印装置进行使用模具对基板上的压印材料形成图案的压印处理,所述压印装置包括:获得单元,其被构造为在所述模具与作为所述基板上的压印对象的投射区域彼此面对之前,获得所述基板上的多个投射区域的各自的形状;第一校正单元,其被构造为针对所述基板上的各投射区域,校正所述模具的图案与所述投射区域之间的形状差;测量单元,其被构造为测量所述模具的图案与所述基板上的投射区域之间的位移;第二校正单元,其被构造为校正所述位移;以及控制单元,其被构造为控制所述压印处理。
搜索关键词: 压印 装置 系统 物品 制造 方法
【主权项】:
一种压印装置,所述压印装置进行使用模具对基板上的压印材料形成图案的压印处理,所述压印装置包括:获得单元,其被构造为在所述模具与作为所述基板上的压印对象的投射区域彼此面对之前,获得所述基板上的多个投射区域的各自的形状;第一校正单元,其被构造为针对所述基板上的各投射区域,校正所述模具的图案与所述投射区域之间的形状差;测量单元,其被构造为测量所述模具的图案与所述基板上的投射区域之间的位移;第二校正单元,其被构造为校正所述位移;以及控制单元,其被构造为控制所述压印处理,其中,所述压印处理包括,基于由所述获得单元预先获得的所述形状使所述第一校正单元校正所述形状差的第一处理,和在所述测量单元测量所述位移的同时使所述第二校正单元校正所述位移的第二处理。
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