[发明专利]压印装置、压印系统和物品的制造方法有效
申请号: | 201510570346.X | 申请日: | 2015-09-09 |
公开(公告)号: | CN105425538B | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 佐藤浩司;诸星洋;高林幸夫 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压印 装置 系统 物品 制造 方法 | ||
1.一种压印装置,所述压印装置进行使用模具在基板上形成压印材料的图案的压印处理,所述压印装置包括:
获得单元,其被构造为在所述模具的图案与作为所述基板上的压印对象的投射区域彼此面对之前,获得所述基板上的多个投射区域的各自的形状;
第一校正单元,其被构造为针对所述基板上的各投射区域,通过使所述模具变形,校正所述模具的图案与所述投射区域之间的形状差;
测量单元,其被构造为测量所述模具的图案与所述基板上的投射区域之间的位移;
第二校正单元,其被构造为校正所述位移;以及
控制单元,其被构造为控制所述压印处理,
其中,所述压印处理包括,基于由所述获得单元获得的所述形状使所述第一校正单元校正所述形状差的第一处理,和在所述测量单元测量所述位移的同时使所述第二校正单元校正所述位移的第二处理,以及
所述控制单元控制所述压印处理,使得在所述模具的图案与所述基板上的作为压印对象的投射区域彼此面对之前开始所述第一处理,并且在所述模具的图案与作为所述压印对象的投射区域已彼此面对之后开始所述第二处理。
2.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元控制所述压印处理,使得同时进行所述第一处理的部分和所述第二处理的部分。
3.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元控制所述压印处理,使得在所述模具与所述基板相对移动以使所述模具的图案与所述基板上的投射区域彼此面对的同时,开始所述第一处理。
4.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元在所述第二处理中,基于所述测量单元测量的所述位移和在所述第一处理中产生的所述模具的图案与所述基板上的投射区域之间的位移,来使所述第二校正单元校正所述位移。
5.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述获得单元获得载入所述压印装置中的各基板的投射区域的形状。
6.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述获得单元获得由所述压印装置的外部测量设备测量的形状。
7.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述测量单元测量所述基板上的所述多个投射区域的各自的形状,并且
所述获得单元获得由所述测量单元测量的所述形状。
8.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述获得单元获得所述基板上的所有投射区域的测量的形状。
9.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述获得单元获得所述基板上的所有投射区域当中的一定投射区域的测量的形状,并基于所述一定投射区域的形状,获得所述基板上的所有投射区域当中的剩余投射区域的形状。
10.根据权利要求9所述的压印装置,其中,所述获得单元通过对所述一定投射区域的形状进行最小二乘近似,来获得所述剩余投射区域的形状。
11.根据权利要求9所述的压印装置,其中,所述获得单元通过对所述一定投射区域的形状进行加权平均,来获得所述剩余投射区域的形状。
12.根据权利要求6所述的压印装置,其中,所述外部测量设备被构造为通过检测配设在所述基板上的标记,来测量所述形状,并且
所述控制单元基于通过检测所述标记获得的标记信息,来确定所述第二处理中的所述测量单元的测量条件。
13.根据权利要求7所述的压印装置,其中,所述测量单元通过检测配设在所述基板上的标记来测量所述形状,并且
所述控制单元基于通过检测所述标记获得的标记信息,来确定所述第二处理中的所述测量单元的测量条件。
14.根据权利要求12所述的压印装置,其中,所述标记信息包括所述标记的对比度、指示所述标记的变形的信息以及指示所述标记的异常的信息中的至少一个。
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