[发明专利]一种N型晶硅电池及其制备方法在审
申请号: | 201510562079.1 | 申请日: | 2015-09-07 |
公开(公告)号: | CN105226115A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 张中伟;廖亚琴;张世勇 | 申请(专利权)人: | 中国东方电气集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 蒋斯琪 |
地址: | 610036 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种N型晶硅电池及其制备方法,该电池包括前表面AgAl电极、前表面减反射膜、硼发射极钝化层、硼发射极P+层、N型基底、磷扩散N+背表面场层、背面钝化层、背面减反射膜、背面Ag电极;电池正面为制绒结构,用以增加对光的吸收,背面为抛光结构,提升背面钝化效果和对长波的背反射效果,正面和背面的钝化膜是经过热氧化生成SiO2层同时制备而成;该制备工艺较为简单,能够与当前晶体硅电池制造生产线设备兼容,可降低成本,适于大规模工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 型晶硅 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种N型晶硅电池,从正面到背面依次包括正面AgAl电极、正面减反射膜、硼发射极钝化层、硼发射极P+层、N型硅片、磷扩散N+背表面场层、背面钝化层、背面减反射膜、背面Ag电极,其特征在于:所述电池的背面采用抛光结构,硼发射极钝化层和背面钝化层均是经过热氧化生成SiO2层同时制备而成,厚度为2~10nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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