[发明专利]偏光膜的缺陷监控方法有效

专利信息
申请号: 201510546614.4 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN105388165B 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 李银珪;严东桓;朴宰贤 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: G01N21/94 分类号: G01N21/94
代理公司: 北京市中伦律师事务所 11410 代理人: 石宝忠
地址: 韩国全*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种偏光膜的缺陷监控方法,更详细地说,通过包含如下阶段,能够使缺陷数值化,提高制品的均一性,能够在生产线上预测缺陷,能够显著地提高生产效率:(S1)对被移送的偏光膜摄影而识别污渍存在的区域的阶段;(S2)测定所述污渍区域与基准区域的亮度之差而得到亮度强度的阶段;(S3)将所述各污渍的亮度强度换算为百分位的阶段;和(S4)在所述百分位为65~100的亮度强度值中选定污渍的代表值(G),在所述污渍的代表值(G)超过缺陷基准值的情况下判定发生了缺陷的阶段。
搜索关键词: 偏光 缺陷 监控 方法
【主权项】:
1.一种偏光膜的缺陷监控方法,其包括:(S1)用对被移送的偏光膜摄影的图像识别污渍存在的区域的阶段;(S2)在所述图像中对各污渍每个测定污渍区域与基准区域的亮度之差而得到亮度强度的阶段;(S3)对于所述各污渍的亮度强度,通过所述各污渍的亮度强度不足的事例除以全体事例,将所述各污渍的亮度强度换算为百分位的阶段;和(S4)在所述百分位为65~100的亮度强度值中选定污渍的代表值G,在所述污渍的代表值G超过缺陷基准值的情况下警告缺陷的产生的阶段。
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