[发明专利]偏光膜的缺陷监控方法

说明书

本发明涉及一种偏光膜的缺陷监控方法，更详细地说，通过包含如下阶段，能够使缺陷数值化，提高制品的均一性，能够在生产线上预测缺陷，能够显著地提高生产效率：(S1)对被移送的偏光膜摄影而识别污渍存在的区域的阶段；(S2)测定所述污渍区域与基准区域的亮度之差而得到亮度强度的阶段；(S3)将所述各污渍的亮度强度换算为百分位的阶段；和(S4)在所述百分位为65～100的亮度强度值中选定污渍的代表值(G)，在所述污渍的代表值(G)超过缺陷基准值的情况下判定发生了缺陷的阶段。

技术领域

本发明涉及一种能够容易地发现在偏光膜的制造时产生的污渍等缺陷的偏光膜的缺陷监控方法。

背景技术

液晶显示器、有机发光显示器、电场发射显示器(FED)、等离子体显示板(PDP)等各种图像显示装置最近被广泛地开发和使用。

另一方面，图像显示装置在出库前的制造过程中发生各种不良，经过多个检查过程，其中在图像显示装置最多使用的部件中的一个是偏光膜、相位差膜等光学膜，因此，光学膜的缺陷是图像显示装置的不良原因的主要原因之一。对于光学膜的缺陷的检测，首先，判别是否为缺陷，进行正确的判定，然后，如果判别为缺陷，则进行根据缺陷的修理(repair)或者废弃、进而缺陷原因的除去等，在制造工序的收率方面，可以说是重要的部分。

光学膜的制造，为了大量生产，通常使用生产线工序。因此，缺陷的检测通过在生产线的特定位置对光学膜连续地摄影，在摄影的部分判别缺陷而进行。

在缺陷的判别中，无遗漏地发现以往各种缺陷是重要的。与其相关联，韩国公开专利第2010-24753号公开了将包含异物的闭曲线与异物的面积进行比较来判别生产线形态的异物的方法。

最近由于光学膜的大型化倾向，部件的原价上升，其结果要求更正确的缺陷的判别方法，因此，依然要求能够正确地判别缺陷的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：韩国公开专利第2010-24753号

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于提供正确地预测缺陷、通过预先进行工序条件的变更等迅速的应对能够显著地降低制品的不合格率的偏光膜的监控方法。

此外，本发明提供在生产线上预测缺陷、能够显著提高生产效率的偏光膜的缺陷监控方法。

本发明技术手段:

1.一种偏光膜的缺陷监控方法，其包括：

(S1)用对被移送的偏光膜摄影的图像识别污渍存在的区域的阶段；

(S2)在所述图像中对各污渍每个测定污渍区域与基准区域的亮度之差而得到亮度强度的阶段；

(S3)将所述各污渍的亮度强度换算为百分位的阶段；和

(S4)在所述百分位为65～100的亮度强度值中选定污渍的代表值(G)，在所述污渍的代表值(G)超过缺陷基准值的情况下警告缺陷的产生的阶段。

2.根据1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，所述偏光膜的摄影用监控装置进行，该监控装置包含：

在所述偏光膜的一侧配置的光源；

在所述偏光膜的另一侧配置的摄影部；和

在所述光源与摄影部间配置、吸收轴与所述偏光膜垂直的至少一个检查用偏光滤波器。

3.根据2所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，将所述检查用偏光滤波器以所述偏光膜为基准分别配置于光源侧和摄影部侧，其吸收轴相互平行。