[发明专利]偏光膜的缺陷监控方法

权利要求书

1.一种偏光膜的缺陷监控方法，其包括：

(S1)用对被移送的偏光膜摄影的图像识别污渍存在的区域的阶段；

(S2)在所述图像中对各污渍每个测定污渍区域与基准区域的亮度之差而得到亮度强度的阶段；

(S3)对于所述各污渍的亮度强度，通过所述各污渍的亮度强度不足的事例除以全体事例，将所述各污渍的亮度强度换算为百分位的阶段；和

(S4)在所述百分位为65～100的亮度强度值中选定污渍的代表值G，在所述污渍的代表值G超过缺陷基准值的情况下警告缺陷的产生的阶段。

2.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，所述偏光膜的摄影用监控装置进行，该监控装置包含：

在所述偏光膜的一侧配置的光源；

在所述偏光膜的另一侧配置的摄影部；和

在所述光源与摄影部间配置、吸收轴与所述偏光膜垂直的至少一个检查用偏光滤波器。

3.根据权利要求2所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，将所述检查用偏光滤波器以所述偏光膜为基准分别配置于光源侧和摄影部侧，其吸收轴相互平行。

4.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，所述污渍包含在膜行进方向的边的长度为2mm以上、与膜行进方向垂直的边的长度为1～20mm的四边形的内部，与基准区域的亮度之差为3～20gray。

5.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，所述污渍的模样选自线形、圆形和椭圆形。

6.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，在所述(S4)阶段中换算的百分位为80～90的亮度强度值中，选定污渍的代表值G，在所述污渍的代表值G超过缺陷基准值的情况下，警告缺陷的产生。

7.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，在所述(S4)阶段中，G值连续2次以上超过缺陷基准值的情况下，警告缺陷的产生。

8.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷监控方法，其中，在所述(S4)阶段中，G值连续2次以上超过缺陷基准值，同时还增加的情况下，警告缺陷的产生。