[发明专利]PBN型InGaAs红外探测器有效
| 申请号: | 201510527303.3 | 申请日: | 2015-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN105185846B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
| 发明(设计)人: | 张志伟;缪国庆;宋航;蒋红;李志明;黎大兵;孙晓娟;陈一仁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/101 |
| 代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所22210 | 代理人: | 王莹 |
| 地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种PBN型InGaAs红外探测器,属于光电子材料与器件技术领域。解决了现有技术中InGaAs探测器存在较多的暗电流的技术问题,进一步提高了InGaAs探测器的响应范围。该红外探测器,由从上至下依次排列的窗口层、阻挡层、吸收层、缓冲层和衬底组成,其中,阻挡层的材料为禁带宽度大于吸收层和窗口层的禁带宽度,且晶格与吸收层匹配的掺Si的InAlAs材料或者掺Si的InAsP材料,阻挡层的厚度为100‑300nm。该红外探测器能够很好的抑制暗电流的产生,且具有高量子效率、低表面复合及更宽的响应范围,能够用于遥感探测。 | ||
| 搜索关键词: | pbn ingaas 红外探测器 | ||
【主权项】:
PBN型InGaAs红外探测器,包括从上至下依次排列的窗口层、吸收层、缓冲层和衬底;其特征在于,所述窗口层和吸收层之间还设有阻挡层;所述阻挡层的材料为掺Si的InAlAs材料或者掺Si的InAsP材料,阻挡层的禁带宽度大于窗口层和吸收层的禁带宽度,且晶格与吸收层匹配;所述阻挡层的厚度为100‑300nm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





