[发明专利]一种电润湿显示下基板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510511125.5 申请日: 2015-08-19
公开(公告)号: CN105097672A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 水玲玲;窦盈莹;金名亮;周国富 申请(专利权)人: 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;G02B26/02
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 510631 广东省广州市大学城*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种电润湿显示下基板的制备方法,采用模板法先制备出像素墙,然后将其转移至疏水绝缘层上,从而可以实现在平整基板表面或者弯曲基板表面的图案化,与传统的光刻技术相比,工艺简单易实现,成本低,所述模板可以长达100次甚至更多的重复利用,而且没有光散射带来的精度限制,能制造复杂的三维结构,精度控制也好,并且克服了传统光刻工艺制备像素墙无法在弯曲基板上实现的不足,可以实现曲面上的微结构制造。本发明可以用于电润湿装置。
搜索关键词: 一种 润湿 显示 下基板 制备 方法
【主权项】:
一种电润湿显示下基板的制备方法,包括在电润湿显示器件下基板的疏水绝缘层上形成像素墙的步骤,其特征在于,该步骤具体为:S10:据像素墙的排布制备图案化的模板;S20:在模板上填充像素墙材料,半定型;S30:将像素墙从模板转移至电润湿显示下基板的疏水绝缘层上。
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