[发明专利]一种电润湿显示下基板的制备方法在审
申请号: | 201510511125.5 | 申请日: | 2015-08-19 |
公开(公告)号: | CN105097672A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 水玲玲;窦盈莹;金名亮;周国富 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;G02B26/02 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明 |
地址: | 510631 广东省广州市大学城*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种电润湿显示下基板的制备方法,采用模板法先制备出像素墙,然后将其转移至疏水绝缘层上,从而可以实现在平整基板表面或者弯曲基板表面的图案化,与传统的光刻技术相比,工艺简单易实现,成本低,所述模板可以长达100次甚至更多的重复利用,而且没有光散射带来的精度限制,能制造复杂的三维结构,精度控制也好,并且克服了传统光刻工艺制备像素墙无法在弯曲基板上实现的不足,可以实现曲面上的微结构制造。本发明可以用于电润湿装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 润湿 显示 下基板 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种电润湿显示下基板的制备方法,包括在电润湿显示器件下基板的疏水绝缘层上形成像素墙的步骤,其特征在于,该步骤具体为:S10:据像素墙的排布制备图案化的模板;S20:在模板上填充像素墙材料,半定型;S30:将像素墙从模板转移至电润湿显示下基板的疏水绝缘层上。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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