[发明专利]一种动态自清理反应器及其用于制备异氰酸酯的方法有效

专利信息
申请号: 201510428651.5 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN105032307B 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 李同和;尚永华;孙中平;韩海涛;孙积钊;黎源;华卫琦 申请(专利权)人: 万华化学集团股份有限公司
主分类号: B01J10/00 分类号: B01J10/00;C07C263/10;C07C265/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264002 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种动态自清理反应器以及采用该反应器通过气相光气化反应制备异氰酸酯的方法。该动态自清理反应器包括壳体(1)、辅进料口(N3)、刮片(2)、支撑轴(5)、混合器、反应区域(3),所述混合器由内进料管(N1)和位于内进料管(N1)外围且与内进料管(N1)同轴的外进料管(N2)构成,刮片(2)能够以支撑轴(5)为轴旋转;由辅进料口(N3)进入的光气形成旋流,强化涡流,加强胺蒸气与光气快速混合并反应,减少反应副产物的生成,并给刮片提供旋转动力,清理反应器的沉积物,延长运行周期。
搜索关键词: 一种 动态 清理 反应器 及其 用于 制备 氰酸 方法
【主权项】:
一种动态自清理反应器,其包括:壳体(1)、辅进料口(N3)、刮片(2)、支撑轴(5)、混合器、反应区域(3),所述混合器由内进料管(N1)和位于内进料管(N1)外围且与内进料管(N1)同轴的外进料管(N2)构成,内进料管(N1)与外进料管(N2)之间形成环形空间(4),支撑轴(5)一端固定在壳体(1)内壁上,另一端与刮片(2)轴连接,所述刮片(2)位于壳体(1)内且以支撑轴(5)为轴旋转清理内进料管(N1)出口、外进料管(N2)的出口和反应区域(3)的侧壁(6),辅进料口(N3)位于反应区域(3)的侧壁(6)上。
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