[发明专利]一种动态自清理反应器及其用于制备异氰酸酯的方法

权利要求书

1.一种动态自清理反应器，其包括：壳体(1)、辅进料口(N3)、刮片(2)、支撑轴(5)、混合器、反应区域(3)，所述混合器由内进料管(N1)和位于内进料管(N1)外围且与内进料管(N1)同轴的外进料管(N2)构成，内进料管(N1)与外进料管(N2)之间形成环形空间(4)，支撑轴(5)一端固定在壳体(1)内壁上，另一端与刮片(2)轴连接，所述刮片(2)位于壳体(1)内且以支撑轴(5)为轴旋转清理内进料管(N1)出口、外进料管(N2)的出口和反应区域(3)的侧壁(6)，辅进料口(N3)位于反应区域(3)的侧壁(6)上。

2.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述内进料管(N1)和外进料管(N2)的出口位于同一水平面上，所述水平面位于辅进料口(N3)最高点所在的水平面和最低点所在的水平面限定的区域之间。

3.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述反应器设有2～12组混合器；每组混合器的轴线与反应器的轴线平行，每组混合器的轴线与反应器的轴线的距离分别为0.2r～0.8r；r为反应区域(3)的半径。

4.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述反应器设有3～8组混合器；每组混合器的轴线与反应器的轴线的距离分别为0.4r～0.7r。

5.根据权利要求4所述的反应器，其特征在于，所述反应器设有4～6组混合器。

6.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述每组混合器的轴线与反应器的轴线的距离相等。

7.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述混合器轴线均匀分布在与反应器同轴的虚拟圆(8)上，虚拟圆(8)的半径为0.2r～0.8r。

8.根据权利要求7所述的反应器，其特征在于，所述虚拟圆(8)的半径为0.4r～0.7r。

9.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述辅进料口(N3)的个数为2～12；其均匀分布在反应区域(3)的侧壁(6)上，其轴线与反应器轴线的距离(L)为0.1r～0.9r，r为反应区域(3)的半径。

10.根据权利要求9所述的反应器，其特征在于，所述辅进料口(N3)的个数为3～8；其轴线与反应器轴线的距离(L)为0.2r～0.7r。

11.根据权利要求10所述的反应器，其特征在于，所述辅进料口(N3)的个数为4～6；其轴线与反应器轴线的距离(L)为0.3r～0.5r。

12.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述刮片(2)具有2～12个刮刀；每个刮刀包括径向刮刀和轴向刮刀，径向刮刀的长度(L2)为0.3r～1.0r；轴向刮刀的高度(H)为0.2r～1.5r；r为反应区域(3)的半径；所述径向刮刀的横截面为四边形，所述四边形的角(α)为20°～90°，四边形底边(L1)的长度与刮刀的厚度(W)的比例为2～8：1；所述轴向刮刀的横截面为四边形，所述四边形的角(β)为20°～90°，四边形底边(L3)的长度与刮刀的厚度(W)的比例为2～8：1；所述四边形为直角梯形。

13.根据权利要求12所述的反应器，其特征在于，所述刮片(2)具有3～8个刮刀；径向刮刀的长度(L2)为0.4r～0.9r；轴向刮刀的高度(H)为0.4r～1.0r；所述径向刮刀的四边形横截面的角(α)为30°～70°，四边形底边(L1)的长度与刮刀的厚度(W)的比例为3～5：1；所述轴向刮刀的四边形横截面的角(β)为30°～70°，四边形底边(L3)的长度与刮刀的厚度(W)的比例为3～5：1。

14.根据权利要求13所述的反应器，其特征在于，所述刮片(2)具有4～6个刮刀；所述径向刮刀的四边形横截面的角(α)为40°～50°；所述轴向刮刀的四边形横截面的角(β)为40°～50°。