[发明专利]彩膜基板的制作方法及其结构在审
申请号: | 201510407669.7 | 申请日: | 2015-07-10 |
公开(公告)号: | CN104932139A | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 孙海燕;申智渊;龙冲 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种彩膜基板的制作方法及其结构。本发明的彩膜基板的制作方法,通过采用三道半色调光罩依次对红、绿、蓝色阻层进行曝光、显影,分别在形成红、绿、蓝色阻块的同时,形成红、绿、蓝色阻薄膜,使红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成复合色阻薄膜,代替了黑色矩阵,省去了黑色矩阵制程,并可通过调节红、绿、蓝色阻薄膜的厚度控制所述复合色阻薄膜的厚度,以调节遮光效果;同时避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象,避免了色差,改善了产品品质,提升了产品良率。本发明的彩膜基板结构,采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄膜代替了黑色矩阵,成本较低,且避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象,无色差。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 制作方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供基板(1),在所述基板(1)上沉积第一色阻层;通过第一道半色调光罩(91)对所述第一色阻层进行曝光、显影,在所述基板(1)上得到数个间隔分布的第一色阻块(10)、及数个第一色阻薄膜(101);其中,每两个相邻的第一色阻块(10)之间间隔分布有三个第一色阻薄膜(101),所述三个第一色阻薄膜(101)中位于两侧的第一色阻薄膜(101)分别与其邻近的第一色阻块(10)相连接,所述三个第一色阻薄膜(101)之间形成两个第一间隙(102);步骤2、在所述基板(1)上沉积第二色阻层,所述第二色阻层填充于所述数个第一色阻块(10)之间的区域,并覆盖所述数个第一色阻薄膜(101);通过第二道半色调光罩(92)对所述第二色阻层进行曝光、显影,在所述基板(1)上得到分别位于所述数个第一色阻块(10)同一侧的第一间隙(102)处的数个第二色阻块(20)、及位于所述数个第一色阻薄膜(101)上的数个第二色阻薄膜(201);步骤3、在所述基板(1)上沉积第三色阻层,所述第三色阻层填充于所述数个第一、第二色阻块(10、20)之间的区域,并覆盖所述数个第二色阻薄膜(201);通过第三道半色调光罩(93)对所述第三色阻层进行曝光、显影,在所述基板(1)上得到分别位于所述数个第二色阻块(20)远离所述第一色阻块(10)一侧的第一间隙(102)处的数个第三色阻块(30)、及位于所述数个第二色阻薄膜(201)上的数个第三色阻薄膜(301);所述数个相对应的第一、第二、第三色阻薄膜(101、201、301)从下至上依次叠加,形成数个复合色阻薄膜,所述数个复合色阻薄膜位于所述数个第一、第二、第三色阻块(10、20、30)之间,从而代替黑色矩阵,起到遮挡漏光的作用。
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