[发明专利]用于检测彩膜基板的画素的方法有效
申请号: | 201510407590.4 | 申请日: | 2015-07-13 |
公开(公告)号: | CN104977738B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 孙海燕;钟小华 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;刘华联 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提出了一种用于检测彩膜基板的画素的方法,其特征在于,包括:步骤一:以画素为基准测量临近的间隔物的高度,得到间隔物高度的测量值H;步骤二:比较H与规格范围值h的大小,如果H在规范范围值h的范围之内,则画素的膜厚符合要求,如果H不在规范范围值h的范围之内,则画素的膜厚不符合要求。该方法能有助于判断彩膜基板的画素是否符合要求,以有效拦截具有不良画素的彩膜基板,避免其漏放到后段制程中。 | ||
搜索关键词: | 画素 彩膜基板 间隔物 膜厚 后段制程 基准测量 检测 测量 拦截 | ||
【主权项】:
1.一种用于检测彩膜基板的画素的方法,其特征在于,包括:步骤一:以画素为基准测量临近的间隔物的高度,得到间隔物高度的测量值H;步骤二:比较H与规格范围值h的大小,如果H在规范范围值h的范围之内,则画素的膜厚符合要求,如果H不在规范范围值h的范围之内,则画素的膜厚不符合要求;其中,以相同宽度的相邻的画素R、G、B分别作为基准测量同一间隔物的高度,分别得到HR 、HG 、HB ,并且,分别将HR 、HG 、HB 与h的大小进行比较,以判断R、G、B的膜厚是否符合要求,在整个所述彩膜基板上选取多个间隔物,并以画素R、G、B分别作为基准测量相应的间隔物的高度H,比较H与规格范围值h的大小,并根据选取的画素的膜厚符合要求的画素数量与选取的总的画素的数量的商来计算画素的符合要求率,如果符合要求率小于固定值时,则去除所述画素并重新制造所述彩膜基板,选取的间隔物在所述彩膜基板上的分布密度在由中间到边缘的方向上减小。
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