[发明专利]用于检测彩膜基板的画素的方法

权利要求书

1.一种用于检测彩膜基板的画素的方法，其特征在于，包括：

步骤一：以画素为基准测量临近的间隔物的高度，得到间隔物高度的测量值H；

步骤二：比较H与规格范围值h的大小，如果H在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚符合要求，如果H不在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚不符合要求；

其中，以相同宽度的相邻的画素R、G、B分别作为基准测量同一间隔物的高度，分别得到HR、HG、HB，并且，分别将HR、HG、HB与h的大小进行比较，以判断R、G、B的膜厚是否符合要求，

在整个所述彩膜基板上选取多个间隔物，并以画素R、G、B分别作为基准测量相应的间隔物的高度H，比较H与规格范围值h的大小，并根据选取的画素的膜厚符合要求的画素数量与选取的总的画素的数量的商来计算画素的符合要求率，如果符合要求率小于固定值时，则去除所述画素并重新制造所述彩膜基板，

选取的间隔物在所述彩膜基板上的分布密度在由中间到边缘的方向上减小。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤二中，h的范围由间隔物的设计最小尺寸与所述画素的设计膜厚的上公差的差到间隔物的设计最大尺寸与所述画素的设计膜厚的下公差的差，

或h的范围由间隔物的设计最小尺寸到间隔物的设计最大尺寸。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，分别根据选取的画素R或画素G或画素B的符合要求的画素数量与选取的相对应的总的画素R或画素G或画素B的数量的商来计算画素R、G、B的符合要求率。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，以相同宽度的相邻的画素R、G、B作为画素组，在所述彩膜基板上每500-10000个画素组中选取一个所述画素组以测量相对应的间隔物的高度。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述固定值为80％。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用白光干涉仪测量间隔物的高度。