[发明专利]一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法

摘要

本发明公开了一种磁控溅射用BZT(锆钛酸钡)靶材的制备方法，先按照BZT的分子式Ba(ZrxTi1‑x)O3且0<x<1的摩尔质量比，将原料BaCO3、ZrO2和TiO2进行混合，球磨后于1000～1200℃进行预烧，再外加0.5～5wt％的PVA，进行二次球磨，再经过烘干、过筛后，压制成型为坯体；再对坯体于600～800℃排胶，再于1300～1400℃烧结，制得BZT靶材。本发明首次采用固相法，提供的BZT靶材直径为32mm～80mm，可以满足不同尺寸要求的磁控溅射需要，适合不同性能要求，且表面平整，靶材翘曲度<5％。

主权项

一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，步骤如下：(1)配制原料按照BZT即锆钛酸钡的化合物分子式Ba(ZrxTi1‑x)O3，其中0<x<1的元素摩尔质量比，将BaCO3、ZrO2、TiO2三种原料进行混合；(2)一次球磨将步骤(1)混合后的原料，按照原料与去离子水和锆球的质量比为1：1：1进行球磨，球磨时间为4～8小时；(3)预烧将步骤(2)一次球磨后的原料烘干，再于1000～1200℃进行预烧，保温2～4小时；(4)二次球磨将步骤(3)预烧后的原料，外加0.5～5wt％的PVA，按照原料与去离子水和锆球的质量比为1：1：1进行球磨，球磨时间为10～14小时；(5)过筛将步骤(4)二次球磨后原料进行烘干，烘干后过40～200目筛；(6)成型将步骤(5)过筛后的粉粒放入压片机中压制成型为坯体；(7)排胶将步骤(6)成型后的坯体放入低温炉中进行排胶，排胶温度为600～800℃；(8)烧结将步骤(7)排胶后的坯体于1300～1400℃高温烧结，升温速率1‑5℃/min，保温时间为3～6小时，制得磁控溅射用BZT靶材。