[发明专利]一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法

权利要求书

1.一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，步骤如下：

(1)配制原料

按照BZT即锆钛酸钡的化合物分子式Ba(Zr_xTi_1-x)O₃，其中0<x<1的元素摩尔质量比，将BaCO₃、ZrO₂、TiO₂三种原料进行混合；

(2)一次球磨

将步骤(1)混合后的原料，按照原料与去离子水和锆球的质量比为1：1：1进行球磨，球磨时间为4～8小时；

(3)预烧

将步骤(2)一次球磨后的原料烘干，再于1000～1200℃进行预烧，保温2～4小时；

(4)二次球磨

将步骤(3)预烧后的原料，外加0.5～5wt％的PVA，按照原料与去离子水和锆球的质量比为1：1：1进行球磨，球磨时间为10～14小时；

(5)过筛

将步骤(4)二次球磨后原料进行烘干，烘干后过40～200目筛；

(6)成型

将步骤(5)过筛后的粉粒放入压片机中压制成型为坯体；

(7)排胶

将步骤(6)成型后的坯体放入低温炉中进行排胶，排胶温度为600～800℃；

(8)烧结

将步骤(7)排胶后的坯体于1300～1400℃高温烧结，升温速率1-5℃/min，保温时间为3～6小时，制得磁控溅射用BZT靶材。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)的原料为分析纯试剂。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(6)压制成型的坯体直径为40～100mm，工作压力为50-150Mpa，保压时间为1-5min。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(7)的排胶温度为700℃。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(8)的烧结温度为1350℃，保温时间为4小时。

6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用BZT靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤(8)将坯体置于高温炉中进行烧结的烧结方式，采用压烧方法以防止靶材弯曲变形。