[发明专利]一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法有效
| 申请号： | 201510350704.6 | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104950601B | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 高小云;刘兵;朱一华 | 申请（专利权）人： | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;汪青 |
| 地址： | 215168 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法，按重量百分比计，清洗剂的原料配方为：无机碱1%~30%；分散剂0.1%~10%；渗透剂0.001%~5%；水55%~98.899%。本发明的清洗剂可在室温下，仅需要3~5分钟将待清洗的掩膜版表面光刻胶及亚克力胶完全去除，除胶效果上远远优于现有技术最好水平；本发明的清洗剂体系为碱性介质，与酸性体系比较，清洗设备的材质的选择范围更宽；本发明的清洗剂没有选用常规的有机极性和非极性溶剂，而是通过选用无机碱、分散剂与渗透剂的巧妙设计搭配，不仅去胶效果极好，而且废液的COD值小于200，清洗剂更加环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版用清 洗剂 应用 以及 掩膜版 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除掩膜版上亚克力胶的清洗剂，其特征在于：按重量百分比计，所述的清洗剂的原料配方为：无机碱 15%~25%；分散剂 0.3%~6%；渗透剂 0.8%~3%；水 66%~83.9%；所述的无机碱为选自碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠中的任意一种或多种的组合；所述的分散剂为润湿分散剂和聚羧酸类阻垢分散剂的组合；所述的渗透剂为选自快速渗透剂T、低泡渗透剂SF中的任意一种或多种的组合。
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