[发明专利]一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法

权利要求书

1.一种用于去除掩膜版上亚克力胶的清洗剂，其特征在于：按重量百分比计，所述的清洗剂的原料配方为：

无机碱 15%~25%；

分散剂 0.3%~6%；

渗透剂 0.8%~3%；

水 66%~83.9%；

所述的无机碱为选自碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠中的任意一种或多种的组合；

所述的分散剂为润湿分散剂和聚羧酸类阻垢分散剂的组合；

所述的渗透剂为选自快速渗透剂T、低泡渗透剂SF中的任意一种或多种的组合。

2.一种如权利要求1所述的清洗剂在去除掩膜版表面的亚克力残胶中的应用。

3.一种采用如权利要求1所述的清洗剂对掩膜版进行清洗的清洗方法，其特征在于：在0℃~40℃下，用所述的清洗剂对待清洗的掩膜版进行浸泡清洗、喷淋清洗或超声清洗3~5分钟，得到清洗后的掩膜版。

4.根据权利要求3所述的清洗方法，其特征在于：在20℃~30℃下进行所述的清洗。

5.根据权利要求3所述的清洗方法，其特征在于：在采用所述的清洗剂对所述的待清洗的掩膜版进行清洗后，用水进行进一步清洗，清洗完成后用氮气吹干即得所述的清洗后的掩膜版。