[发明专利]一种软性薄膜晶体管阵列基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201510347608.6 申请日: 2015-06-23
公开(公告)号: CN104900659A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 柯聪盈;郑贵宁 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/3205;H01L21/306
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种软性薄膜晶体管阵列基板及其制造方法。该制造方法包括以下步骤:形成一离型层于玻璃基板的上方;形成一导电层于离型层的上方;利用湿蚀刻制程对导电层进行图案化,从而形成一接合焊盘;形成一薄膜晶体管以及一过孔,藉由过孔电性耦接薄膜晶体管与接合焊盘;以及利用离型层从玻璃基板分离薄膜晶体管。相比于现有技术,本发明在离型层上方设置导电层,从而使形成过孔时的干蚀刻制程并不会穿透图案化导电层而伤害到离型层,因此可避免后续制程出现分离失败的不良情形。
搜索关键词: 一种 软性 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种软性薄膜晶体管阵列基板的制造方法,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:形成一离型层于玻璃基板的上方;形成一导电层于所述离型层的上方;利用湿蚀刻制程对所述导电层进行图案化,从而形成一接合焊盘;形成一薄膜晶体管以及一过孔,所述薄膜晶体管藉由所述过孔电性耦接至所述接合焊盘;以及利用所述离型层从所述玻璃基板分离所述薄膜晶体管。
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