[发明专利]提升电容电路以及电荷泵有效
申请号: | 201510310618.2 | 申请日: | 2015-06-07 |
公开(公告)号: | CN104883052B | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 杨光军 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H02M3/07 | 分类号: | H02M3/07 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明揭示了一种提升电容电路,包括第一NMOS晶体管和倍压电路,所述倍压电路包括第一PMOS晶体管的漏极接一工作电压,源极接一第一节点,栅极接一第二节点;驱动反相器的输入端接收一第一信号;第二PMOS晶体管的栅极接所述驱动反相器的输出端,第二PMOS晶体管的源极和漏极相连后,连接所述第一节点;第三PMOS晶体管的栅极接收所述第一信号,源极连接所述第一节点,漏极连接所述第二节点;第二NMOS晶体管的栅极接收所述第一信号,源极接低电压,漏极连接所述第二节点;第一NMOS晶体管的源极和漏极相连,第二节点向所述第一NMOS晶体管的源极和漏极提供一第二信号。本发明还揭示了一种包括所述提升电容电路的电荷泵。所述提升电容电路和电荷泵的面积效率高。 | ||
搜索关键词: | 提升 电容 电路 以及 电荷 | ||
【主权项】:
一种提升电容电路,其特征在于,包括第一NMOS晶体管和倍压电路,所述第一NMOS晶体管的栅极用于提供提升电压,所述第一NMOS晶体管为厚栅氧NMOS晶体管,所述第一NMOS晶体管的栅极氧化层厚度为所述倍压电路包括:第一PMOS晶体管,所述第一PMOS晶体管为薄栅氧PMOS晶体管,所述第一PMOS晶体管的栅极氧化层厚度均小于所述第一PMOS晶体管的漏极接一工作电压,所述第一PMOS晶体管的源极接一第一节点,所述第一PMOS晶体管的栅极接一第二节点;驱动反相器,所述驱动反相器的输入端接收一第一信号;第二PMOS晶体管,所述第二PMOS晶体管为薄栅氧PMOS晶体管,所述第二PMOS晶体管的栅极氧化层厚度均小于所述第二PMOS晶体管的栅极接所述驱动反相器的输出端,所述第二PMOS晶体管的源极和漏极相连后,连接所述第一节点;第三PMOS晶体管,所述第三PMOS晶体管的栅极接收所述第一信号,所述第三PMOS晶体管的源极连接所述第一节点,所述第三PMOS晶体管的漏极连接所述第二节点;第二NMOS晶体管,所述第二NMOS晶体管的栅极接收所述第一信号,所述第二NMOS晶体管的源极接低电压,所述第二NMOS晶体管的漏极连接所述第二节点;其中,所述第一NMOS晶体管的源极和漏极相连,所述第二节点向所述第一NMOS晶体管的源极和漏极提供一第二信号。
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